测量范围

使用 光谱反射技術 | 使用 光学轮廓测量技術

使用 光谱反射技術

材料: 至少部分透明的薄膜, 加上所有的半导体 (透明或不透明)。 薄膜在外观上至少要有某种程度的光泽。

厚度范围: 测量从 1nm 到 13mm 的厚度。 测量 70nm 到 10um 薄膜的折射率。

単位 厚度范围
最低 最高
Å 10 10^8
nm 1 10^7
0.01 10^5
µm 0.001 10000
µm-in 0.04 40^4
mils 0.00004 400
mm 10^-6 10
g/cm^2 10^-7 1

能够测量厚度大于10nm的薄膜折射率 (这也取决于材料本身)

可测量的层数: 通常能够测量薄膜堆内的三层独立薄膜。 在某些情况下,能够测量到十几层。

基板材料: 如果薄膜位于粗糙基板 (大多数金属) 上的话,一般不能测量薄膜的折射率。 此外,粗糙基板还将最低的可测量薄膜厚度限制为大约 50nm。

所需的信息: 必须了解样品中所有薄膜的顺序、名称和标称厚度,不管它们是否有待于测量。


使用 光学轮廓测量技術

我们的Profilm3D光学轮廓仪可在0.1纳米至10毫米的范围内测量表面粗糙度,表面形貌和台阶高度。台阶高度测量功能可用来测量不透明材料(如金属)厚度的理想选择。点击这里了解更多.


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